QUATRON-R

runde Plasmastrahlquelle

Merkmale und Beschreibung

Eine runde Plasmastrahlquelle für den multifunktionalen Einsatz in verschiedenen Anlagentypen. Diese Art von Quellen ist sehr gut dimensionierbar und kann an die Hardware angepasst werden. Das ist auch die physikalisch und mechanisch günstigste Form.

Die QUATRON-R kann zum Ätzen, Beschichten, Unterstützen bei Bedampfungsbeschichtungen oder Magnetronbeschichtungen, Erzeugung von Oxidschichten eingesetzt werden.

Vorzüge der Quelle:

  • Ionenenergie im Strahl: 20 ... ~2000 eV
  • Stromstärke vom Strahl:  bis ~6 mA/cm²
  • Sehr monochrome Energieverteilung in jeweiligem Druckbereich
  • Neutraler Strahl (keine statische Aufladung vom Substrat)
  • Paralleler Strahl
  • Plasmabetrieb mit ALLEN möglichen Gasen
  • Plasmabetrieb mit mehreren Gasen gleichzeitig mit der Vermischung (Erstkontakt) im Plasma
  • Keine Prozessverschmutzung. (Stabilität und Reproduzierbarkeit)
  • Beschichtungen „aus der Quelle heraus“. Zum Beispiel bei DLC Prozessen werden die C+ Atome in der Quelle aufbereitet.

QUATRON-R - Technische Daten

Strahldurchmesser
80 mm (QUATRON-R 80)
200 mm (QUATRON-R 200)
300 mm (QUATRON-R 300)
450 mm (QUATRON-R 450)
Strahlfläche, ca.
50 cm² (QUATRON-R 80)
314 cm² (QUATRON-R 200)
700 cm² (QUATRON-R 300)
1590 cm² (QUATRON-R 450)
Druckbereich
2 * 10E-3 ... 1 * 10E-5 mbar
Gas
alle Gase
RF-Leistung, max
5000 Watt
Energie bis zu
2000 eV
Stromdichte, bis zu
~4 mA/cm² (QUATRON-R 80)
5 mA/cm² (QUATRON-R 200)
5 mA/cm² (QUATRON-R 300)
5 mA/cm² (QUATRON-R 450)
Matching
manuell, automatisch
Extraktionsnetz
Wolfram, Edelstahl, etc...
Kühlung
Wasser
Applikationen
Wafer, EB-Gun Assistierung, PVD, Ätzen, PECVD, R&D, etc...

* Andere Größen und Spezifikationen der QUATRON Plasmastrahlquellen auf Anfrage

Produktinformation (PDF):
QUATRON Serie

ADRESSE

HS-Group GmbH
Porschestrasse 12
63512 Hainburg
Germany

Tel. +49 6182 - 93 51 0
Fax +49 6182 - 93 51 11

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