QUATRON

Neutrale Plasmastrahl Quellen

Die HS-Group GmbH ist Ihr zuverlässiger Partner in der Projektierung, Konstruktion und Fertigung von Plasmastrahlquellen. Für unsere Kunden und deren Anwendung finden wir stets die optimale Lösung in der Plasmatechnik. Sie erhalten hochtechnologische und zugleich zuverlässige Produkte, eine kompetente Beratung und einen erstklassigen Service! Mehr als 200 verkaufte Plasmaquellen im zuverlässigen täglichen Einsatz für unsere Kunden.

SIGMET 2000 V

QUATRON - L

Lineare Plasmastrahlquellen

SIGMET 2000 V

QUATRON - R

Runde Plasmastrahlquellen

SIGMET 2000 V

QUATRON - R IS

Runde In-Situ Plasmastrahlquellen, Einbauversion

QUATRON Technologie

Die von HS-Group GmbH eingesetzten und patentierten Methoden der Plasmaerzeugung und Extraktion ermöglichen den Einsatz von Plasmatechnologie in einer Vielzahl von Anwendungen.

Unsere QUATRON Technologie basiert auf vier wichtigen Eigenschaften, die unsere Plasmaquelle zu einem herausragenden Werkzeug für den vielseitigen Einsatz in Industrie und Wissenschaft macht.

Die vier wichtigen QUATRON Eigenschaften sind:

⇒ Kapazitiv gekoppelt
⇒ Hochenergetisch
⇒ Resistenz gegen prozessbedingte Verschmutzung (kein Glaskörper)
⇒ Alle Prozessgase, inkl. Reaktivgase können eingesetzt werden

Eine Umstellung unserer Plasmaquellen auf verschiedene Frequenzen wie z.B. 13,56 MHz, 27,12 MHz oder 40 MHz ist problemlos möglich. Höhere Frequenzen führen zu einem höheren Ionisationsgrad und dadurch zu einer höheren Plasmadichte, einem höheren Ionenstrom und höherer Energie.

Beschichtungen direkt „aus der Quelle heraus“ sind möglich. Zum Beispiel bei DLC Prozessen bereiten wir die C+ Atome in der Quelle und bearbeiten die Oberflächen mit definierten Energie, Strom und Richtung.

Die Magnetfeldspulen sind axial gerichtet. Das ermöglicht die Beeinflussung des Magnetfeldes und Änderung der Strahlcharakteristik (Energie, Focus). Mit dem Magnetfeld kann das Plasma auf verschiedenste Prozessbedingungen wie z.B. Kammerdruck eingeregelt werden.

Weitere Besonderheiten unserer QUATRON Plasma-Quellen:

⇒ Neutraler und paralleler Strahl (keine statische Aufladung des Substrates)
⇒ Extraktionsnetz - einziges Verschleißteil
⇒ Ionenenergie im Strahl exakt einstellbar: 20 ... ~2000 eV
⇒ Strahl-Stromstärke: bis ~6 mA/cm²
⇒ Typischer Arbeitsbereich/Druckbereich: 1*10-4 ... 5*10-3 mbar
⇒ Sehr monochrome Energieverteilung im jeweiligen Druckbereich
⇒ Plasmabetrieb mit mehreren Gasen gleichzeitig mit Erstkontakt (Vermischung) in der Plasmaquelle

Mit unseren kapazitiv gekoppelten Plasmaquellen sind sowohl CVD-Prozesse als plasmaunterstützte Prozesse in den gängigen PVD-Verfahren möglich. Der Energiebereich reicht von typisch 20eV bis 2000eV und höher.

ADRESSE

HS-Group GmbH
Porschestrasse 12
63512 Hainburg
Germany

Tel. +49 6182 - 93 51 0
Fax +49 6182 - 93 51 11

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